Pressespiegel
Maschinelle Reinigung erhöht Haltbarkeit der Nanobeschichtung
08.09.2017
Aus: EPP - Elektronik Produktion + Prüftechnik, 9/2017
„Um Oxydreste und Anhaftungen zu entfernen, müssen SMD-Schablonen im Produktionsprozess in einem abschließenden Schritt gereinigt werden, bevor sie einsatzfähig sind. Bei der Photocad GmbH & Co. KG geschah dies bisher meist manuell mit Hilfe eines tensidhaltigen Reinigungsmittels, was jedoch ein äußerst mühsames und zeitintensives Unterfangen ist.“