Pressespiegel

Maschinelle Reinigung erhöht Haltbarkeit der Nanobeschichtung

08.09.2017
Aus: EPP - Elektronik Produktion + Prüftechnik, 9/2017

„Um Oxydreste und Anhaftungen zu entfernen, müssen SMD-Schablonen im Produktionsprozess in einem abschließenden Schritt gereinigt werden, bevor sie einsatzfähig sind. Bei der Photocad GmbH & Co. KG  geschah dies bisher meist manuell mit Hilfe eines tensidhaltigen Reinigungsmittels, was jedoch ein äußerst mühsames und zeitintensives Unterfangen ist.“

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